平面光柵是扁平衍射光柵，廣泛應用于工業領域，如單色儀和多色儀、激光技術和分光、航空航天工程領域及反射標準。平面機械刻劃光柵專為一階衍射而設計，通過自動校直在某些波長上獲得非常大衍射效率。通過刻線間距、槽型深度和閃耀角來定義能量分布。

蔡司平面光柵對 150 nm 和 50 μm 之間的光譜范圍進行了優化。采用機械刻劃或全息記錄的方式制作光柵，所采用方法取決于是否能獲得優異的結果。可能的光柵槽型有刻痕或閃耀、正弦和層狀或二進制。

蔡司平面光柵生產簡介：蔡司的平面光柵屬衍射光柵，使用兩種生產方法：1)全息方法；2)刻劃機刻復制。為符合各行業需要，光柵在100nm-50μm有很好的優化性能，按光柵溝槽輪廓分類，我們把供：1)中階梯；2)正弦；3)淺槽式。歡迎索取相關樣本。

蔡司平面光柵簡介 (Plane Grating)

平面光柵應用

• 單色儀 / Monochromators 
• 光譜儀 / Spectrometers 
• 激光技術 / Laser technology 
• 光束分離器 / Beam dividers 
• 空間技術 /Space technology 
• 反射標淮 / Reflection standards

滿足各種應用，優化光柵適用于100nm-50μm，光柵是機械刻劃或全息生產，光柵輪廓可以下顯示：

• 中階梯光柵 / echelette 
• 正弦 / sinus 
• 流層式 / aminar 

平面光柵的機械刻劃，使用自動準直產生一階衍射譜，而能量即由線距、輪廓深度、閃耀角度分配。使用自動準直產生的光柵對某波長(閃耀波長)給出*大效率，Czerny-Turner設計被經常應用。

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